연평균 출원 12.4%↑… 질적 수준 미흡

정부 연구·개발(R&D)로 창출된 특허 성과가 양적으로는 성과를 거뒀으나 질적 수준은 미흡한 것으로 평가됐다. 특허청이 24일 최근 5년간(2009∼2013년) 정부 R&D를 통한 특허 성과 관리 및 활용 실태를 분석한 결과 2013년 창출된 특허 출원 건수는 2만 3766건에 달했다. 2009년(1만 4905건) 대비 연평균 12.4% 출원이 증가한 셈이다. 10억원당 출원 건수를 나타내는 특허생산성도 1.41로 일본이나 미국에 비해 4~6배 높았다.

그러나 특허의 질적 수준과 활용 측면에서는 개선이 필요한 것으로 지적됐다. 우수특허 비율은 14.0%로 민간(15.5%)과 비슷했지만 외국인(42.5%)에 비해 크게 낮았다. 더욱이 미국 등록 특허 중 우수특허 비율(25.6%)의 절반 수준에 머물렀다.

더욱이 특허 출원 대다수가 국내에 집중된 것으로 나타났다. 삼극특허(미국, 일본, 유럽에 모두 등록된 특허)와 동일 발명이 2개국 이상에 출원된 패밀리특허는 주요국의 44~71% 수준에 머물렀다.

정부 R&D에서 중소기업 지원이 확대되면서 중소기업의 특허 출원은 증가했지만 부적격으로 등록이 거절되는 비율이 높아 특허 창출을 위한 추가 지원이 필요한 것으로 지적됐다. 특허청의 거절결정률은 중소기업이 20.8%로 가장 높았고 형식적인 기재 내용을 빠트린 기재 불비가 30.5%에 이르렀다.

특허청은 분석 결과를 토대로 정부 R&D에 대한 전 주기별 지원 방안을 마련키로 했다. 김영민 특허청장은 “정부 R&D의 특허생산성 등 양적 수준은 선진국을 넘어섰다”면서 “관계 부처와 협력해 고품질 특허 창출 및 활용을 확대할 수 있도록 뒷받침하겠다”고 말했다.

대전 박승기 기자 skpark@seoul.co.kr