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한 ·일 양국 특허제도 공조 강화

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아시아 주도의 국제 지식재산권 질서 구축을 위해 한·일 특허청이 공조를 강화한다.

김호원 특허청장과 후카노 히로유키 일본 특허청장은 18일 일본 도쿄에서 제24차 한·일 특허청장 회담을 열어 산업과 특허제도가 유사한 양국 간 특허 심사 및 심판분야 공동연구와 협업을 추진하기로 합의했다. 양국 특허청은 내년부터 양국에 공통으로 출원된 특허에 대해 공동 선행기술 조사사업을 매년 4개 기술 분야로 확대 실시하기로 했다. 공동 선행기술 조사는 특허심사와 관련된 제도와 실무 차이로 인한 심사결과 불일치를 최소화하는 데 필요한 과정이다.

정부대전청사 박승기기자 skpark@seoul.co.kr

2012-12-19 12면
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