상표·디자인분야 선진 5개청 한국으로 모인다!

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상표·디자인분야 선진 5개청 한국으로 모인다!

- 특허청, 상표·디자인분야 선진 5개청(TM5·ID5) 연례회의 개최(9.11~15) -
- 상표침해 인식제고 방안, 가상공간 상의 디자인 보호 등 협력 과제 논의 -
- 특허청장, 상표분야 선진 5개청(TM5) 연례회의 및 상표·디자인 공개 토론회 등 부대행사 참석 -

특허청(청장 이인실)은 9.11.(월)~15.(금)까지 송도 오크우드 프리미어(인천시 연수구)에서 ‘2023 상표분야 선진 5개청(TM5) 및 디자인분야 선진 5개청(ID5)* 연례회의**’를 개최한다고 밝혔다.
* TM5(Trade Mark 5), ID5(Industrial Design 5): 상표·디자인 분야 선진 5개 관청(한국, 미국, 유럽, 일본, 중국) 협의체
** TM5·ID5 연례회의: 세계 상표 출원의 60%, 디자인 출원의 70% 이상을 차지하는 선진 5개 관청이 상표·디자인 분야 국제 규범 형성 및 조화와 사용자 편의 제고를 위해 매년 개최
회의에서는 각 관청과 세계지식재산기구(WIPO) 관계자 등이 한국에 모인 가운데 올 한 해 추진했던 협력과제의 경과를 정리하고, 내년도 추진과제를 채택할 예정이다.
상표분야 선진 5개청(TM5) 연례회의(9.11~12)에서는 ‘상표침해에 대한 인식제고 방안’, ‘악의적 상표출원 방지방안’ 등 16개 협력 과제에 대해 논의한다. 또한 확장 가상 세계(메타버스)와 같은 가상공간에서의 상표 사용 확대, 국경을 넘나드는 상표권 침해 등 새로운 문제가 대두됨에 따라, 이에 선제적으로 대응하기 위한 상표분야 선진 5개청(TM5) 공동선언문을 발표할 예정이다.
디자인분야 선진 5개청(ID5) 연례회의(9.14)에서는 ‘확장 가상 세계(메타버스) 상 디자인 보호’와 ‘디자인 도면요건에 관한 사용자 지침서 제작’을 비롯한 12개 협력과제를 다룬다. 특히 ‘확장 가상 세계(메타버스) 상 디자인 보호’ 과제는 각국 산업계 의견까지 반영하여 올 연말 마무리될 예정이다.
신규 과제로는 한국이 미국과 공동으로 ‘헤이그 국제디자인 심사결과 비교’를 제안하며, 여성의 디자인 제도 참여 활성화를 위한 노력을 담은 디자인 분야 선진 5개청(ID5) 공동선언문도 논의한다.
특허청은 회의가 열리는 5일간을 ‘상표·디자인 주간’으로 지정해 상표·디자인 공개 토론회 및 인천지역 기업 간담회(9.11), 상표분야 선진 5개청(TM5) 및 디자인분야 선진 5개청(ID5) 사용자시간(세션)(각 9.13, 9.15), 상표 거대자료(빅데이터) 학술회의(9.13) 등 부대행사도 같은 장소에서 개최한다.
이인실 특허청장은 11일 상표분야 선진 5개청(TM5) 연례회의에 참석해 각 관청 대표단을 격려하고 깊이 있는 논의를 당부할 예정이다. 또한 상표·디자인 공개 토론회 및 인천지역 기업 간담회에 참석해 학계·산업계 강연과 기업의 지재권 애로사항을 청취한다.
이인실 특허청장은 “최근 신기술 등장과 시장의 세계화 등으로 인한 지재권 환경 변화에 대응하기 위해 공동 노력이 더욱 중요해졌다”며, “상표·디자인 분야 신 규범 형성과 출원인의 권리 보호 강화를 목표로 선진 5개청 간 협력을 이끌어 나가겠다”고 말했다.